Für seine Membrandosierpumpen der Reihe DIGITAL DOSING™ hat Grundfos Alldos den Flow Monitor weiterentwickelt. Mit der neuen Funktion AutoCal hat der Anwender jetzt nicht nur problematische Chemikalien sicher im Griff, sondern auch schwierig zu handhabende Prozesse. Denn der Flow Monitor der neuen Generation macht Schluss mit dem zeitraubenden Prozedere der manuellen Nachkalibrierung der Pumpe im Falle wechselnder Systemdrücke. Die damit ausgestattete digitale Pumpe wird bereits werkseitig kalibriert und kompensiert alle nun auftretenden Druckschwankungen von selbst.

Ein Albtraum für alle Anwender, die anspruchsvolle Prozesse zu bedienen und dabei schwankende Systemdrücke zu berücksichtigen haben: Der Druck geht rauf und runter und die Dosierpumpe sollte ständig manuell nachkalibriert werden, damit der Förderstrom auf konstantem Niveau und auf Sollwert gehalten werden kann. Denn bei gebräuchlichen Membran-Dosierpumpen führt jede Änderung im Systemdruck und damit in der Druckleitung zu einer Veränderung des Hubvolumens der Pumpe und damit der in den Prozess abgegebenen Menge. Das führt dann zwangsläufig zu qualitätsmindernden und unwirtschaftlichen Ergebnissen.

Diese Problematik lässt sich bei herkömmlichen Dosierpumpen nur durch ständiges Nachkalibrieren oder aufwendige Durchflussmess- und Regeltechnik verhindern.
Mit der DIGITAL DOSING™ Technologie von Grundfos Alldos ist das Einstellen der Dosierpumpe über die Hublänge glücklicherweise schon lange passé. Der Einsatz von Schritt- und EC-Motoren mit mehrsensorgesteuertem Regelkreis ermöglicht stattdessen eine optimale Ansteuerung von Saug- und Druckhub bei gleichbleibender Hublänge. Der entscheidende Vorteil ist, dass stets mit vollem Hubvolumen angesaugt wird. Dadurch läuft die digitale Dosierung besonders gleichmäßig, pulsationsarm und störungsfrei ab. Ein wichtiger Faktor beim Dosieren schwieriger Medien.
Die mit der neuen AutoCal-Funktion ausgestattete Pumpe wird nur einmal werkseitig auf Medien mit wasserähnlicher Viskosität kalibriert. Vorausgesetzt, das zu dosierende Medium ist von vergleichbarer Konsistenz, wird nun ein derten Bedingungen anpasst.
Die Information über wechselnde Druckverhältnisse erhält die Pumpe über einen in den Dosierkopf eingebauten Drucksensor, also direkt am Ort des Geschehens.

Darüber hinaus registriert der integrierte Mikroprozessor zu jedem Zeitpunkt ganz genau, in welcher Position sich der EC-Pumpenmotor und somit auch die Membran befinden. Die Pumpe kann sofort automatisch Auf der Betriebskostenseite macht sich die elegante und zuverlässige Lösung von Grundfos Alldos beim Anwender ganz schnell bemerkbar. Neben der eingesparten Nachkalibrierzeit, sorgt die deutlich verbesserte Prozessqualität für weniger Kopfzerbrechen und Entspannung im Budget.
Ein weiteres Highlight der DDI 222 ist die standardmäßig eingesetzte Voll-PTFE-Mehrschichtmembran. Weiteres Kalibrieren gänzlich unnötig.

Bei Fördermedien mit abweichender Viskosität genügt einmaliges Nachkalibrieren vor Ort. Danach kann sich der Anwender gelassen zurücklehnen, denn im Prozess kompensiert die DDI 222 nun alle auftretenden Druckschwankungen selbst, indem sie sich automatisch immer wieder den geänihre Antriebsdrehzahl entsprechend anpassen: Steigender Systemdruck verringert das Hubvolumen, so dass durch Erhöhen der Hubfrequenz der Volumenstrom konstant gehalten werden kann.

Sinkt der Systemdruck, erhöht sich das Hubvolumen und die Hubfrequenz wird entsprechend der Druckdifferenz verringert Bei einem Defekt der Arbeits-membran dosiert die Pumpe mit der ebenso robusten zweiten Membran weiter, ohne den Prozess zu unterbrechen. Ist optional zusätzlich ein Membranensor in den Dosierkopf eingebaut, gibt dieser sofort bei Leckage der ersten Membran eine Meldung aus. Der Austausch der Membran kann dagegen warten, bis sich eine passendere Gelegenheit bietet. Ein weiteres Plus der Voll-PTFE-Membran gegenüber beschichteten Membranen ist die erhöhte Lebensdauer und Widerstandfähigkeit gegenüber Chemikalien.
Die DDI 222 mit dem neuen Flow Monitor ist somit die Dosierpumpe erster Wahl, wenn es in schwierigen Prozessen um die Beherrschung der häufigsten Störungen geht.